Samsung producirá V-NAND de 300 capas en 2024: informe


Samsung Electronics está preparado para emplear una arquitectura de doble pila para su memoria 3D-NAND de novena generación cuando comience su producción el próximo año, según un informe de DigiTimes que cita Diario económico de Seúl. Esto diferencia a Samsung de SK Hynix, que utiliza tres pilas de NAND para construir sus dispositivos 3D NAND de 321 capas cuando entren en producción en masa en la primera mitad de 2025.

El V-NAND de 9.ª generación de Samsung con más de 300 capas se basa en la técnica de doble pila, que Samsung adoptó por primera vez en 2020 con sus chips 3D NAND de 176 capas de 7.ª generación. Este método implica la producción de una pila 3D NAND en una oblea de 300 mm y luego la construcción de otra pila encima de la primera. La NAND 3D de 300 capas de Samsung aumentará la densidad de almacenamiento producida en una oblea y permitirá a los fabricantes construir SSD de menor costo o hacer que las mejores SSD sean más baratas.



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