Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE), una empresa respaldada por el estado, está en camino de revelar su primer escáner capaz de producir chips en una tecnología de proceso de 28 nm para fines de 2023, informa el Global Times controlado por el estado. La máquina podría ayudar a China a reducir su dependencia de los equipos de fabricación de obleas extranjeros, señaló Bloomberg.
SMEE tiene como objetivo introducir en el mercado la primera máquina de litografía SSA/800-10W de producción nacional para fines de 2023, lo que sería un gran avance para la empresa, que actualmente solo produce escáneres lo suficientemente buenos para nodos de 90 nm y más. Se espera que el escáner litográfico utilice componentes desarrollados y producidos localmente, razón por la cual el precio de las acciones de los fabricantes de componentes ópticos con sede en China Mloptic, Kingsemi y Castech subieron el miércoles.
Mientras tanto, todavía hay incertidumbre sobre si la empresa con sede en Shanghái puede producir estas máquinas a escala. Los detalles sobre este avance tecnológico no estaban disponibles el miércoles, y las fuentes de información son el Global Times y la agencia de noticias Xinhua de propiedad estatal.
Los principales fabricantes de chips de China, como Semiconductor Manufacturing International Corp. (SMIC) y Hua Hong Semiconductor, utilizan equipos fabricados en el extranjero por empresas como ASML, Canon, Nikon y Tokyo Electron. Sin embargo, EE. UU., Japón y los Países Bajos impusieron recientemente restricciones a las empresas chinas en lo que respecta a las ventas de equipos avanzados de fabricación de obleas. Estas restricciones básicamente bloquearon el acceso a herramientas con capacidad de 14/16 nm para las fundiciones con sede en China.
Por ahora, SMIC y Hua Hong pueden comprar herramientas con capacidad de 28 nm en el extranjero, pero un escáner local sería más rentable. Además, su aparición marcaría la capacidad de SMEE de superar varias generaciones de escáneres y pasar directamente de una máquina con capacidad para 90nm a una con capacidad para 28nm. El avance informado de SMEE podría ser un paso significativo en el desarrollo de la fabricación de chips autosuficientes, suponiendo que la empresa haya diseñado el dispositivo completamente internamente.
Fundada en 2002, SMEE es el principal fabricante de máquinas de litografía de China y se considera el único competidor potencial de China para ASML.