Los avances en los sustratos de vidrio de Intel podrían revolucionar los paquetes de múltiples chips


Intel confirmó hoy formalmente que utilizaría sustratos de vidrio para embalajes avanzados en la segunda mitad de esta década. Intel espera que las propiedades mecánicas, físicas y ópticas superiores de los sustratos de vidrio permitan a la empresa construir sistemas en paquetes (SiP) multichiplet de mayor rendimiento, destinados principalmente a centros de datos. En particular, Intel espera que los sustratos de vidrio permitan SiP ultragrandes de 24×24 cm que alberguen múltiples piezas de silicio.

El vidrio ofrece una variedad de beneficios sobre los sustratos orgánicos tradicionales. Entre sus características destacadas se encuentra su planitud ultrabaja para mejorar la profundidad de enfoque para la litografía, así como una estabilidad dimensional superior para las interconexiones. Esto será importante para los SiP de próxima generación con aún más chiplets en comparación con los dispositivos actuales, como el Ponte Vecchio de Intel. Estos sustratos también proporcionan una estabilidad térmica y mecánica superior, lo que les permite soportar temperaturas más altas, lo que los hace más resistentes en aplicaciones de centros de datos.

(Crédito de la imagen: Intel)

Además, Intel afirma que los sustratos de vidrio permiten una densidad de interconexión mucho mayor (es decir, pasos más estrechos), lo que hace posible multiplicar por diez este aspecto, que es crucial para la entrega de energía y el enrutamiento de señales de los SiP de próxima generación. En particular, Intel está hablando de <5/5um Línea/Espacio y <100um a través de vidrio mediante paso (TGV), lo que permite un paso entre matrices de <36um en el sustrato y un paso entre núcleos <80um. Además, los sustratos de vidrio reducen la distorsión del patrón en un 50%, lo que mejora la profundidad de enfoque para la litografía y garantiza una fabricación de semiconductores más precisa y exacta.

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(Crédito de la imagen: Intel)

La introducción de sustratos de vidrio por parte de Intel es un salto significativo con respecto a los sustratos orgánicos que utiliza actualmente la industria. El mayor proveedor de procesadores del mundo cree que los sustratos orgánicos alcanzarán los límites de sus capacidades en los próximos años, ya que la empresa producirá SiP orientados a centros de datos con decenas de mosaicos y quizás miles de vatios de consumo de energía. Dichos SiP requerirían interconexiones muy densas entre chipsets, al tiempo que garantizarían que todo el paquete no se doble durante la producción o durante el tiempo de uso debido al calor.

(Crédito de la imagen: Intel)

Dado que estos SiP no existen hoy en día, los sustratos de vidrio no sirven solo para superar desafíos como las densidades de interconexión y la tolerancia a la temperatura. Permiten a Intel crear soluciones innovadoras para centros de datos, inteligencia artificial y gráficos, afirma la compañía. Esto podría sentar las bases para lograr la asombrosa cifra de 1 billón de transistores en un solo paquete en la próxima década.

Al menos por ahora, Intel es el único fabricante de chips que habla de sustratos de vidrio, y podría haber una razón para ello. La compañía dice que ha estado trabajando en esta tecnología durante aproximadamente una década y ahora tiene una línea de investigación y desarrollo de vidrio totalmente integrada en su campus de Chandler, Arizona, donde la compañía desarrolla tecnologías de embalaje. Intel dice que la línea le costó más de mil millones de dólares y que para que funcionara necesitaba colaborar tanto con socios de equipos como de materiales. Sólo unas pocas empresas del sector pueden permitirse este tipo de inversiones, e Intel parece ser la única empresa que hasta ahora ha desarrollado sustratos de vidrio.

(Crédito de la imagen: Intel)



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